Photonenaktivierte Reinigungs-und Oxidationsprozesse für die Nanoelektronik

 
 
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Diese Arbeit beschäftigt sich mit photonenaktivierten Reinigungs- und Oxidationsprozessen für die Nanoelektronik, bei denen ein thermisches Budget von T = (700 . . . 750) °C nicht überschritten wird. Dieser Temperaturbereich stellt eine kritische Obergrenze...
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