5€¹ Rabatt bei Bestellungen per App

5€¹ Rabatt bei Bestellungen per App

Reliability of High Mobility SiGe Channel MOSFETs for Future CMOS Applications

(Sprache: Englisch)
 
 
Merken
Merken
 
 
This book explores the reliability of novel (Si)Ge channel quantum well pMOSFET technology. It proposes a physical model to understand the intrinsically superior reliability of the MOS system consisting of a Ge-based channel and a SiO2/HfO2 dielectric stack.
Leider schon ausverkauft
versandkostenfrei

Bestellnummer: 78319251

Buch 99.98
In den Warenkorb
  • Lastschrift, Kreditkarte, Paypal, Rechnung
  • Kostenlose Rücksendung
  • Ratenzahlung möglich
 
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
 
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
Kommentar zu "Reliability of High Mobility SiGe Channel MOSFETs for Future CMOS Applications"
 
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
 
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
  •  
     
     
     
     
0 Gebrauchte Artikel zu „Reliability of High Mobility SiGe Channel MOSFETs for Future CMOS Applications“
Zustand Preis Porto Zahlung Verkäufer Rating