Spacer Engineered FinFET Architectures (PDF)
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This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device-circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
- Autoren: Sudeb Dasgupta , Brajesh Kumar Kaushik , Pankaj Kumar Pal
- 2017, 154 Seiten, Englisch
- Verlag: Taylor & Francis
- ISBN-10: 1351751042
- ISBN-13: 9781351751049
- Erscheinungsdatum: 26.06.2017
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- Dateiformat: PDF
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