Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungs
Diplomarbeit
Diplomarbeit aus dem Jahr 2004 im Fachbereich Elektrotechnik, Note: 1,3, Technische Universität Chemnitz (Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik, Zentrum für Mikrotechnologien), Sprache: Deutsch, Abstract: Vor dem Hintergrund der in der...
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Klappentext zu „Bewertung neuartiger metallorganischer Precursoren für die chemische Gasphasenabscheidung von Kupfer für Metallisierungs “
Diplomarbeit aus dem Jahr 2004 im Fachbereich Elektrotechnik, Note: 1,3, Technische Universität Chemnitz (Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik, Zentrum für Mikrotechnologien), Sprache: Deutsch, Abstract: Vor dem Hintergrund der in der Mikroelektronik-Fertigung heute verbreiteten Kupfertechnologie werden in der vorliegenden Arbeit drei neuartige metallorganische Verbindungen, nämlich phosphitstabilisierte Kupfer(I)-Trifluoracetat-Komplexe vorgestellt und hinsichtlich ihrer Anwendbarkeit für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) von Kupfer untersucht. Im einzelnen handelt es ich um die Substanzen Tris(trimethylphosphit)kupfer(I)trifluoracetat (METFA), Tris(triethylphosphit)kupfer(I)trifluoracetat (ETTFA) und Tri(tris(trifluorethyl)phosphit)kupfer(I)trifluoracetat (CFTFA). Mit den Substanzen erfolgen CVD-Experimente auf TiN und Cu bei Temperaturen
Bibliographische Angaben
- Autor: Thomas Wächtler
- 2008, 3. Aufl., 104 Seiten, Maße: 14,8 x 21 cm, Kartoniert (TB), Deutsch
- Verlag: GRIN Verlag
- ISBN-10: 3638949117
- ISBN-13: 9783638949118
- Erscheinungsdatum: 17.06.2008
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