Untersuchungen von Reinheitssytemen zur Herstellung von Halbleiterprodukten

1 Einleitung.- 1.1 Problemstellung.- 1.2 Zielsetzung und Vorgehensweise.- 2 Stand der Technik.- 2.1 Begriffe und Definitionen.- 2.2 Halbleiterfertigung.- 2.3 Eingesetzte Produktionssysteme für "reine" Anwendungen.- 2.4 Überprüfung der Partikelreinheit in der Produktumgebung.- 3 Analyse von Produktionssystemen für "reine" Anwendungen und Ableitung von Entwicklungsschwerpunkten.- 3.1 Analyse der Produktionsumgebung.- 3.2 Analyse der Fertigungsgeräte und -anlagen.- 3.3 Analyse des Transportes zwischen den Fertigungsgeräten und -anlagen.- 3.4 Analyse der Qualifizierungsverfahren.- 3.5 Ableitung von Entwicklungsschwerpunkten.- 4 Konzeption eines Integralen Reinheitssystems.- 4.1 Bewertung eingesetzter "Reiner" Produktionssysteme.- 4.2 Optimierungsansätze.- 4.3 Varianten der Reinheitssysteme.- 5 Entwicklung eines Verfahrens zur Qualifizierung von Reinheitssystemen.- 5.1 Konzeption des Qualifizierungsverfahrens.- 5.2 Komponenten des Qualifizierungsverfahrens.- 5.3 Entwicklung des Auswertealgorithmus.- 5.4 Entwicklung einer Qualifizierungsmethode.- 6 Entwicklung von Komponenten zur strömungstechnischen Auslegung eines Integralen Reinheitssystems.- 6.1 Reinheitssystemgerechte Produktübergabe.- 6.2 Ermittlung thermischer Einflüsse auf die Erstluftströmungsverhältnisse.- 7 Umsetzung und Erprobung an Praxisbeispielen.- 7.1 Fertigungsgerät zum Reinigen und Ätzen.- 7.2 Fertigungsanlage zum Belacken und Entwickeln.- 7.3 Diskussion der Anwendungsmöglichkeit und Ergebnisse.- 8 Zusammenfassung und Ausblick.- 9 Literaturverzeichnis.